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Cristallo ottico
Anello al quarzo di silice fusa di diametro 300 mm di grandi dimensioni trasparente
| Nome del prodotto: | Anello in silice fusa trasparente di grandi dimensioni, diametro 300mm |
|---|---|
| Materiale: | Silice fuso |
| Colore: | chiaro |
Giroscopio emisferico del risuonatore di Shell Quartz Resonator For Hemispherical
| Materiale: | Silice sintetica fusa di alta purezza |
|---|---|
| Tolleranza: | 0,0005 mm |
| Precisione: | Alto grado |
Apparecchi di quarzo Barchetta a wafer di quarzo per laboratorio solare
| Materiale: | Quarzo fuso |
|---|---|
| Superficie: | chiaro |
| Applicazioni: | Industria solare e chimica |
Quarzo solido, bastone capillare quadrato 0,51x0,51 mm
| Nome del prodotto: | Barre capillari di quarzo solido - quadrate |
|---|---|
| Materiale: | Quarzo di elevata purezza |
| Colore: | Trasparente trasparente |
blocchetto su ordinazione di vetro di quarzo 1000C con superficie lucidata
| Materiale: | vetro di quarzo |
|---|---|
| Superficie: | Lucido |
| Dimensione: | costume |
Metropolitana rettangolare del singolo di fila del quarzo foro del capillare 8
| Nome: | tubo capillare di quarzo rettangolare a 8 fori |
|---|---|
| Materiale: | Silice fuso |
| Diametro: | < 11 mm |
tubo di vetro in quarzo rivestito d'argento ad alta riflettività
| Materiale: | Quarzo di elevata purezza |
|---|---|
| Densità: | 2,2 g/cm3 |
| temperatura di lavoro: | 1100c |
Tubo di vetro di quarzo con foro conico
| Nome del prodotto: | Tubo di vetro di quarzo lucido di piccole dimensioni con foro conico |
|---|---|
| Applicazione: | Cavità |
| Materiale: | Quarzo puro al 99,99%. |
Cavità conica con substrato di quarzo fuso liscio per l'analisi ottica dei campioni
| Materiale: | Silice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%) |
|---|---|
| Dimensioni di base: | 2 mm x 2 mm |
| Tipo di cavità: | Fossa conica conica centrale |
Il vetro su ordinazione della barca del quarzo di silice fusa di elevata purezza parte la formazione integrale per il vassoio di ricottura dei semiconduttori
| Materiale: | Silice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%) |
|---|---|
| Processo di formazione: | Formatura a caldo integrale |
| Temperatura operativa massima: | 1100°C |

