Substrato di zaffiro 65x2.9x2mm lucidato di precisione per base di supporto per apparecchiature laser

Il substrato di zaffiro è un componente sottile di precisione con dimensioni di 65 x 2,9 x 2 mm, fabbricato in zaffiro monocristallino per applicazioni ottiche e laser esigenti. Il substrato è rettificato e lucidato di precisione con tolleranze dimensionali ristrette, fornendo una superficie piana e pulita per il montaggio di elementi ottici e componenti laser. Senza precipitazioni durante il servizio prolungato ad alta temperatura e con eccellenti prestazioni isolanti, il substrato mantiene purezza e stabilità in condizioni operative estreme. La sua resistenza meccanica e all'usura è di gran lunga superiore alla silice fusa, rendendolo una scelta durevole per finestre di strumenti, basi per sensori e supporti per apparecchiature laser.

• Striscia sottile rettificata e lucidata di precisione: Il pezzo lungo e sottile è rifinito con alta qualità superficiale e planarità per il montaggio ottico.
• Tolleranza dimensionale ristretta: Lunghezza, larghezza e spessore sono controllati entro limiti ristretti per un assemblaggio affidabile.
• Nessuna precipitazione ad alta temperatura prolungata: Il materiale di zaffiro puro non rilascia contaminanti durante il servizio ad alta temperatura.
• Ottime prestazioni isolanti: L'eccellente isolamento elettrico supporta l'uso in sistemi elettronici e ottici sensibili.
• Maggiore resistenza meccanica e all'usura rispetto alla silice fusa: Il substrato resistente resiste a urti, usura e danni da manipolazione.
• Lavorazione personalizzabile: La lucidatura mono o bifacciale, la fresatura, la foratura e il rivestimento possono essere adattati alle esigenze.

Il substrato di zaffiro è progettato per sistemi ottici, laser e di rilevamento che richiedono una piattaforma robusta, stabile e di dimensioni precise. È ampiamente utilizzato come finestra per strumenti ottici di precisione, fornendo un'apertura durevole e trasparente per la trasmissione della luce. Nei sistemi laser, il substrato funge da substrato portante per apparecchiature laser, supportando componenti con eccellente stabilità termica e meccanica. Il componente è anche adottato come piastra di visualizzazione per ispezioni ad alta temperatura, consentendo l'osservazione di processi a temperature elevate. Nei sistemi di rilevamento, funziona come substrato trasmissivo per sensori, combinando chiarezza ottica con isolamento elettrico. Inoltre, il substrato viene utilizzato come componente ottico per analizzatori spettrali, fornendo prestazioni costanti tra i lotti.

• Rettifica e lucidatura di precisione per pezzi sottili: La tolleranza dimensionale ristretta garantisce un adattamento preciso negli assemblaggi di precisione.
• Nessuna precipitazione e ottimo isolamento: Il servizio prolungato ad alta temperatura mantiene il substrato puro e elettricamente sicuro.
• Superiore resistenza meccanica e all'usura: Molto più resistente della silice fusa, il substrato resiste a graffi e urti.
• Completa personalizzazione: Processi di lucidatura, fresatura, foratura e rivestimento sono disponibili per soddisfare le esigenze dell'applicazione.
• Prestazioni ottiche costanti nella produzione di massa: L'uniformità dei lotti fornisce risultati ripetibili per applicazioni su larga scala.