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Tubo al quarzo sigillato a un'estremità OD25xID21xL130mm di elevata purezza per forno tubolare porta campioni gorgogliatore reattore chimico
| Materiale | Quarzo di elevata purezza | Dimensioni | diametro esterno 25 mm x diametro interno 21 mm x lunghezza 130 mm |
|---|---|---|---|
| Spessore della parete | 2 mm | Tipo di fine | Un'estremità sigillata con fusione integrale |
| Resistenza alla temperatura | Fino a 1100°C | Resistenza chimica | Resistente all'HF e agli acidi/alcali forti |
| Evidenziare | Tubo al quarzo sigillato a un'estremità,tubo al quarzo OD25xID21xL130mm,tubo campione per forno ad alta purezza |
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Tubo al quarzo sigillato a un'estremità OD25*ID21*L130mm
Questo tubo al quarzo sigillato a un'estremità, dimensioni OD25*ID21*L130mm con spessore della parete di 2 mm, presenta un'estremità chiusa fusa integralmente per un'eccellente tenuta all'aria. Realizzato in quarzo di elevata purezza, offre resistenza al calore di 1.100°C e durabilità superiore agli agenti chimici HF/acidi forti: ideale per supporti campioni di forni tubolari, contenitori a gorgogliamento di gas, reattori chimici sigillati e contenitori di precursori di semiconduttori.
Parametri del prodotto
| Parametro | Specifica |
|---|---|
| Materiale | Quarzo di elevata purezza |
| Diametro esterno | 25 mm |
| Diametro interno | 21 mm |
| Lunghezza totale | 130 mm |
| Spessore della parete | 2 mm |
| Tipo di fine | Un'estremità sigillata con fusione integrale |
| Resistenza alla temperatura | Fino a 1100°C |
| Resistenza chimica | Resistente all'HF e agli acidi/alcali forti |
| Tenuta all'aria | Eccellente, nessuna perdita di gas |
| Purezza | Elevata purezza, nessuna precipitazione ionica |
Caratteristiche principali
- Estremità sigillata integralmente fusa– Un'estremità chiusa in modo permanente con fusibile durante la produzione, garantendo la tenuta all'aria al 100% senza rischio di perdite nel punto di tenuta durante il funzionamento ad alta temperatura.
- Resistenza al calore 1100°C– Mantiene l'integrità strutturale a temperature elevate e prolungate per applicazioni di calcinazione e sinterizzazione in forni tubolari senza deformazioni o rammollimenti.
- HF e forte resistenza chimica– Superiore al vetro borosilicato, resiste all'acido fluoridrico e agli acidi/alcali concentrati per ambienti sigillati con reazione corrosiva.
- Elevata purezza, nessuna contaminazione– Quarzo puro al 99,99% con precipitazione ionica pari a zero, prevenendo la contaminazione del campione nei semiconduttori e nei processi chimici ad elevata purezza.
- Spessore della parete uniforme– Lo spessore costante delle pareti di 2 mm garantisce una distribuzione uniforme del calore e una resistenza meccanica affidabile in condizioni di cicli termici.
Applicazioni
1. Supporto per campioni del forno tubolare
Contenitore per calcinazione ad alta temperatura per campioni di polvere, che consente la sinterizzazione sigillata in atmosfera di gas protettivo con l'estremità chiusa che impedisce la perdita del campione e la fuoriuscita di gas.
2. Dispositivo gorgogliatore di gas
Serbatoio di liquido gorgogliante del gas di trasporto per la vaporizzazione dei precursori e l'umidificazione dei reagenti, con l'estremità sigillata che forma il fondo della camera del gorgogliatore per un contatto affidabile gas-liquido.
3. Reattore da laboratorio chimico
Recipiente di reazione sigillato per esperimenti con reagenti fortemente corrosivi, con resistenza completa all'HF che consente un trattamento chimico a contatto prolungato che distruggerebbe i contenitori di vetro standard.
4. Lavorazione dei semiconduttori
Contenitore per l'erogazione di materie prime ad elevata purezza e recipiente per la fonte di gas CVD su piccola scala, con precipitazione ionica pari a zero che protegge la purezza del materiale di grado semiconduttore.
Vantaggi rispetto al vetro borosilicato
Rispetto ai tubi sigillati in vetro borosilicato, questo tubo al quarzo offre resistenza completa agli acidi HF, funzionamento prolungato a 1100°C, estremità sigillata fusa integralmente senza adesivo o giunto che potrebbe perdere ed eccellente resistenza agli shock termici contro le rotture dovute a rapidi cambiamenti di temperatura, rendendolo la scelta superiore per applicazioni chimiche sigillate ad alta temperatura e semiconduttori.

