Reattore di laboratorio di digestione chimica di alta purezza di silice fuso al quarzo

Luogo di origine Cina
Numero di modello QTA-HP-CUSTOM
Prezzo negotiable
Termini di pagamento T/T,L/C,PayPal,Western Union
Dettagli
Materiale Silice fuso ad alta purezza Costruzione Integralmente fuso o legato
Superficie Doppio lato macinato fine, parete interna liscia Resistenza alla temperatura ≤1100°C Funzionamento continuo
Resistenza chimica Resistente agli acidi/alcali forti concentrati e agli HF
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Serbatoio di quarzo ad alta purezza

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Serbatoio di quarzo di silice fuso

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Serbatoio di quarzo per la decapaggio dei wafer

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Descrizione di prodotto

Serbatoio al quarzo di silice fusa di elevata purezza

Questo serbatoio in quarzo di silice fusa ad elevata purezza presenta uno spessore di parete uniforme, superfici finemente rettificate su entrambi i lati e una struttura integralmente fusa o incollata. Con una temperatura di esercizio continua di ≤1100°C e una durata superiore degli agenti chimici HF/acidi forti, offre prestazioni affidabili per il decapaggio dei wafer semiconduttori, la digestione dei campioni ad alta temperatura, le reazioni dei reagenti chimici e la calcinazione aperta in laboratorio, superando significativamente le alternative al vetro borosilicato.

Parametri del prodotto

ParametroSpecifica
MaterialeSilice fusa ad elevata purezza
CostruzioneIntegralmente fuso o legato
Spessore della pareteUniforme
Finitura superficialeDoppio lato macinato fine, parete interna liscia
Temperatura di lavoro≤1100°C Continuo
Resistenza chimicaResistente agli acidi/alcali forti concentrati e agli HF
Dilatazione termicaBasso, resistente al riscaldamento e al raffreddamento rapidi
PurezzaElevata purezza, nessuna precipitazione di metalli pesanti

Caratteristiche principali

  • HF e forte resistenza chimica– Completamente resistente all'acido fluoridrico e agli acidi/alcali forti concentrati, adatto per l'immersione prolungata di reagenti corrosivi che distruggerebbero i serbatoi di vetro borosilicato.
  • ≤1100°C Funzionamento continuo– Mantiene l'integrità strutturale a temperature elevate prolungate per la digestione, la calcinazione e i processi chimici ad alta temperatura senza rammollimento o deformazione.
  • Elevata purezza, nessuna contaminazione– Silice fusa pura al 99,99% con precipitazione di metalli pesanti pari a zero, garantendo l'assenza di contaminazione incrociata durante la lavorazione dei wafer semiconduttori e le applicazioni chimiche ad elevata purezza.
  • Bassa dilatazione termica– L’eccellente resistenza agli shock termici sopporta cicli rapidi di riscaldamento e raffreddamento senza rompersi, consentendo un uso ciclico ripetuto in ambienti industriali e di laboratorio impegnativi.
  • Parete interna liscia– Superficie interna lucida di precisione per una facile pulizia e un'adesione minima dei residui, riducendo il rischio di contaminazione incrociata tra i lotti.

Applicazioni

1. Decapaggio con acido umido

Serbatoio ad immersione con acido per processi di decapaggio e pulizia di wafer fotovoltaici, di vetro ottico e di semiconduttori, con resistenza completa all'HF e agli acidi che garantisce un funzionamento affidabile a lungo termine.

2. Digestione ad alta temperatura

Contenitore per la digestione ed evaporazione dei campioni per analisi chimiche, test ambientali e analisi di laboratorio, resistente al riscaldamento sostenuto e ai reagenti di digestione corrosivi.

3. Produzione chimica su piccola scala

Serbatoio di reazione, purificazione e stoccaggio temporaneo dei reagenti corrosivi per test chimici su scala pilota, con struttura in quarzo inerte che impedisce reazioni collaterali indesiderate.

4. Sinterizzazione in laboratorio

Contenitore di calcinazione aperto per materie prime in polvere in forni elettrici da laboratorio, con stabilità alle alte temperature e struttura non contaminante per risultati sperimentali ripetibili.

Vantaggi rispetto al vetro borosilicato

A differenza dei serbatoi in vetro borosilicato attaccati dall'HF e ammorbiditi ad alte temperature, questo serbatoio in quarzo di silice fusa offre resistenza completa all'HF, funzionamento prolungato a 1100°C, eccellente resistenza agli shock termici per uso ciclico ed elevata purezza senza precipitazione di metalli pesanti, rendendolo la scelta definitiva per la lavorazione di wafer di semiconduttori, la digestione ad alta temperatura e le applicazioni chimiche corrosive.