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Reattore di laboratorio di digestione chimica di alta purezza di silice fuso al quarzo
| Materiale | Silice fuso ad alta purezza | Costruzione | Integralmente fuso o legato |
|---|---|---|---|
| Superficie | Doppio lato macinato fine, parete interna liscia | Resistenza alla temperatura | ≤1100°C Funzionamento continuo |
| Resistenza chimica | Resistente agli acidi/alcali forti concentrati e agli HF | ||
| Evidenziare | Serbatoio di quarzo ad alta purezza,Serbatoio di quarzo di silice fuso,Serbatoio di quarzo per la decapaggio dei wafer |
||
Serbatoio al quarzo di silice fusa di elevata purezza
Questo serbatoio in quarzo di silice fusa ad elevata purezza presenta uno spessore di parete uniforme, superfici finemente rettificate su entrambi i lati e una struttura integralmente fusa o incollata. Con una temperatura di esercizio continua di ≤1100°C e una durata superiore degli agenti chimici HF/acidi forti, offre prestazioni affidabili per il decapaggio dei wafer semiconduttori, la digestione dei campioni ad alta temperatura, le reazioni dei reagenti chimici e la calcinazione aperta in laboratorio, superando significativamente le alternative al vetro borosilicato.
Parametri del prodotto
| Parametro | Specifica |
|---|---|
| Materiale | Silice fusa ad elevata purezza |
| Costruzione | Integralmente fuso o legato |
| Spessore della parete | Uniforme |
| Finitura superficiale | Doppio lato macinato fine, parete interna liscia |
| Temperatura di lavoro | ≤1100°C Continuo |
| Resistenza chimica | Resistente agli acidi/alcali forti concentrati e agli HF |
| Dilatazione termica | Basso, resistente al riscaldamento e al raffreddamento rapidi |
| Purezza | Elevata purezza, nessuna precipitazione di metalli pesanti |
Caratteristiche principali
- HF e forte resistenza chimica– Completamente resistente all'acido fluoridrico e agli acidi/alcali forti concentrati, adatto per l'immersione prolungata di reagenti corrosivi che distruggerebbero i serbatoi di vetro borosilicato.
- ≤1100°C Funzionamento continuo– Mantiene l'integrità strutturale a temperature elevate prolungate per la digestione, la calcinazione e i processi chimici ad alta temperatura senza rammollimento o deformazione.
- Elevata purezza, nessuna contaminazione– Silice fusa pura al 99,99% con precipitazione di metalli pesanti pari a zero, garantendo l'assenza di contaminazione incrociata durante la lavorazione dei wafer semiconduttori e le applicazioni chimiche ad elevata purezza.
- Bassa dilatazione termica– L’eccellente resistenza agli shock termici sopporta cicli rapidi di riscaldamento e raffreddamento senza rompersi, consentendo un uso ciclico ripetuto in ambienti industriali e di laboratorio impegnativi.
- Parete interna liscia– Superficie interna lucida di precisione per una facile pulizia e un'adesione minima dei residui, riducendo il rischio di contaminazione incrociata tra i lotti.
Applicazioni
1. Decapaggio con acido umido
Serbatoio ad immersione con acido per processi di decapaggio e pulizia di wafer fotovoltaici, di vetro ottico e di semiconduttori, con resistenza completa all'HF e agli acidi che garantisce un funzionamento affidabile a lungo termine.
2. Digestione ad alta temperatura
Contenitore per la digestione ed evaporazione dei campioni per analisi chimiche, test ambientali e analisi di laboratorio, resistente al riscaldamento sostenuto e ai reagenti di digestione corrosivi.
3. Produzione chimica su piccola scala
Serbatoio di reazione, purificazione e stoccaggio temporaneo dei reagenti corrosivi per test chimici su scala pilota, con struttura in quarzo inerte che impedisce reazioni collaterali indesiderate.
4. Sinterizzazione in laboratorio
Contenitore di calcinazione aperto per materie prime in polvere in forni elettrici da laboratorio, con stabilità alle alte temperature e struttura non contaminante per risultati sperimentali ripetibili.
Vantaggi rispetto al vetro borosilicato
A differenza dei serbatoi in vetro borosilicato attaccati dall'HF e ammorbiditi ad alte temperature, questo serbatoio in quarzo di silice fusa offre resistenza completa all'HF, funzionamento prolungato a 1100°C, eccellente resistenza agli shock termici per uso ciclico ed elevata purezza senza precipitazione di metalli pesanti, rendendolo la scelta definitiva per la lavorazione di wafer di semiconduttori, la digestione ad alta temperatura e le applicazioni chimiche corrosive.

