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Substrato di quarzo ad alta purezza 180×15×5 mm con resistenza alle alte temperature

  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
  • 180×15×5mm High Purity Quartz Substrate With High Temperature Resistance
Luogo di origine Cina
Numero di modello QT-SB-180x15x5
Prezzo negotiable
Dettagli
Materiale Silice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%) Dimensioni 180 mm x 15 mm x 5 mm (L x L x P)
Temperatura operativa massima 1100°C Finitura superficiale Rettificato e lucidato di precisione
Coefficiente di espansione termica 5,5 x 10^-7 /°C (CTE ultrabasso) Resistenza chimica Acido fluoridrico, acidi forti e alcali
Trasmittanza > 92% (gamma UV-visibile) Impurità metallica Ultra-bassa, nessuna precipitazione
Applicazione Rivestimento di wafer semiconduttori, substrato di pellicola ottica, dispositivo di fissaggio per ce
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Sottostrato di quarzo di alta purezza

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sottostrato di quarzo da 180×15×5 mm

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sottostrato di quarzo resistente ad alte temperature
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Descrizione di prodotto

Panoramica del prodotto

ILSubstrato di quarzo di silice fusa di elevata purezzaè una lastra di vetro al quarzo molata di precisione (180 mm x 15 mm x 5 mm) progettata per semiconduttori di fascia alta, rivestimenti ottici, applicazioni fotovoltaiche e di laboratorio. Realizzato con silice fusa di prima qualità (SiO2 > 99,99%), questo substrato offre eccezionale stabilità termica, inerzia chimica e chiarezza ottica, rendendolo la scelta preferita per ambienti di produzione esigenti ad alta precisione.

Caratteristiche principali

  • Purezza ultraelevata:SiO2 > 99,99% con contenuto di impurità metalliche estremamente basso. L'assenza di precipitazione ionica garantisce un'elaborazione priva di contaminazioni per applicazioni ottiche e di semiconduttori
  • Resistenza alla temperatura 1100°C:Resiste al calore estremo senza deformazioni o degradazioni, superando di gran lunga le alternative al vetro borosilicato
  • HF e forte resistenza alla corrosione:Eccellente durabilità chimica contro acido fluoridrico, acidi forti e alcali: ideale per processi chimici aggressivi a umido
  • Espansione termica estremamente bassa:Il CTE di 5,5 x 10^-7 /°C previene fessurazioni e deformazioni in caso di rapidi cicli di temperatura
  • Alta trasmissione:> 92% di trasmissione dallo spettro UV a quello visibile, perfetto per applicazioni di rivestimento ottico e fotolitografia
  • Finitura superficiale di precisione:Le superfici rettificate e lucidate di precisione garantiscono planarità e deposizione uniforme del rivestimento

Applicazioni

IndustriaApplicazione
Semiconduttori e microelettronicaSupporto per imballaggio wafer, substrato litografico, base di rivestimento ad alta temperatura, piattaforma di test di invecchiamento dei componenti elettronici
Ottica e fotoelettricaSubstrato di rivestimento ottico a film sottile, base della piastra filtrante, dispositivo di rivestimento sotto vuoto, banco di prova dello spettro
Fotovoltaico e nuova energiaDispositivo di rivestimento per celle solari, diffusione ad alta temperatura e supporto di processo PECVD, substrato antideformazione
Laboratorio e chimica finePiattaforma di sinterizzazione ad alta temperatura, banco di prova della corrosione HF, forte vettore di reazione chimica
Strumento di precisioneSubstrato di riferimento dello spettrometro, piastra da banco per apparecchiature di ispezione ottica

Vantaggi competitivi

rispetto al vetro borosilicato:Resiste a temperature superiori a 1100°C rispetto al limite di ~500°C; resistenza superiore agli acidi HF; L'espansione termica 10 volte inferiore previene le fessurazioni; il bassissimo livello di impurità metalliche elimina il rischio di contaminazione del processo

rispetto alla ceramica di allumina:Elevata trasparenza ottica per applicazioni UV-visibili; finitura superficiale più liscia per un rivestimento uniforme; lavorazione di precisione più leggera e più semplice

Specifiche

ParametroValore
MaterialeSilice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%)
Dimensioni180 mm (L) x 15 mm (L) x 5 mm (P)
Temperatura operativa massima1100°C
CTE5,5 x 10^-7 /°C
Trasmittanza> 92% (UV-visibile)
Resistenza chimicaHF, acidi forti e alcali
Finitura superficialeRettificato e lucidato di precisione
Impurità metallicaUltra-bassa, nessuna precipitazione
Etichette:

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