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Cavità conica con substrato di quarzo fuso liscio per l'analisi ottica dei campioni

  • Smooth Fused Quartz Substrate Conical Cavity For Optical Sample Analysis
  • Smooth Fused Quartz Substrate Conical Cavity For Optical Sample Analysis
Dettagli
Materiale Silice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%) Dimensioni di base 2 mm x 2 mm
Tipo di cavità Fossa conica conica centrale Temperatura operativa massima 1100°C
Resistenza chimica HF, acidi e alcali forti, solventi organici Espansione termica CET 5,5 x 10^-7 /°C (Basso)
Finitura superficiale Lavorato con precisione, liscio e senza scheggiature Purezza Nessuna precipitazione di ioni metallici
Applicazione Supporto per microcampioni ottici, base di posizionamento a semiconduttore, cella per microreagenti
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Substrato di quarzo fuso liscio

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substrato di quarzo fuso con cavità conica

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substrato di quarzo fuso per analisi ottica del campione
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IlSubstrato di quarzo con cavità conica(base 2 mm x 2 mm con fossa conica al centro) è un componente in quarzo di grado ottico ad alta precisione progettato per il posizionamento di micro campioni, test ottici e sperimentazione di semiconduttori.Fabbricazione a precisione a partire da silice fuso di alta purezza (SiO2 > 99.99%) con un'inclusione conica liscia e priva di frammenti, offre una eccezionale stabilità termica fino a 1100°C, un'eccezionale resistenza chimica agli HF e ai reagenti aggressivi,e zero lisciviazione ionica ­ che lo rende la piattaforma ideale per le più esigenti applicazioni ottiche e semiconduttori su micro scala.

Caratteristiche chiave

  • Precisione cavità conica:Fossa conica al centro con finitura liscia e priva di frammenti per un posizionamento e un posizionamento sicuri dei micro campioni
  • 1100°C Resistenza alle alte temperatureMantiene la stabilità dimensionale e la qualità della superficie in condizioni termiche estreme senza deformazioni
  • HF e resistenza chimica forte:Non influenzato da acido fluoridrico, acidi concentrati, alcali forti e solventi organici
  • A bassa espansione termica:CTE 5.5 x 10^-7/°C garantisce dimensioni stabili e geometria della cavità in ampie gamme di temperature
  • Alta purezza e zero lisciviazione ionico:SiO2 > 99,99% senza precipitazione di ioni metallici, evitando la contaminazione del campione
  • Lavorazione di precisione:Superficie finemente lucida con tolleranze dimensionali esatte per un allineamento ottico ripetibile

Applicazioni

IndustriaApplicazione
Prova di campioni otticiTenitore a punto fisso per campioni di microparticelle e polveri con base trasparente che consente il rilevamento della trasmissione luminosa e l'analisi spettroscopica
Sperimentazione sui semiconduttoriBase di posizionamento e allineamento per i microcomponenti con cavità di precisione che limita il movimento durante la prova
Test microchimiciCella reagente da nanolitri con recesso conico per reazioni chimiche a microvolume e analisi al microscopio

Vantaggi competitivi

contro Sottostrato di plastica/polimero:Le materie plastiche si gonfiano e si degradano nei solventi organici e non sopportano alte temperature; questo substrato di quarzo resiste a tutti i solventi e agli acidi, resiste a 1100 °C,e può essere ripetute volte pulita e riutilizzata senza degradazione

contro borosilicato di vetro:Il vetro borosilicato ammorbidisce al di sopra di 500°C ed è attaccato da HF; il substrato di quarzo mantiene l'integrità a 1100°C ed è completamente resistente all'acido fluoridrico e a tutti i media corrosivi

Specificità

ParametroValore
MaterialeSilice fuso di alta purezza (SiO2 > 99,99%)
Dimensioni di base2 mm x 2 mm
Tipo di cavitàFossa conica con forma conica centrale
Temperatura massima di funzionamento1100°C
Resistenza chimicaHF, acidi forti e alcali, solventi organici
Espansione termicaCTE 5,5 x 10^-7 /°C (basso)
Finitura superficialePrecisione meccanizzata, liscia e priva di frammenti
PurezzaNessuna precipitazione di ioni metallici
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