D265 Borosilicato piattaforma di vetro ottico portante a bassa autofluorescenza ad alta pianura resistente ai prodotti chimici

1Informazioni di base sul prodotto

Nome del prodotto: D265 Low Autofluorescence High Flatness Borosilicate Glass Carrier Platform Materiale di base: grado 1 alta resistenza idrolitica D265 borosilicate vetro ottico Tecnologia di lavorazione:Polizzatura ottica a doppio lato, laminazione di precisione, pulizia ultra-pulita Dimensioni standard opzionali: forme quadrate o rotonde personalizzate; spessore standard 0,17-1,2 mm, piattezza ≤2 μm, variazione dello spessore totale TTV ≤1 μm

2Applicazioni principali

Precisione monolitica lavorata con vetro borosilicato D265 speciale a basso contenuto alcalino, questo supporto presenta autofluorescenza ultra-bassa, elevata trasmissione luminosa, resistenza agli acidi e agli alcali,bassa espansione termica e piattezza superioreÈ ampiamente utilizzato come substrato portante per l'osservazione microscopica, il legame temporaneo dei semiconduttori, i test biologici, la litografia ottica e le attrezzature di laboratorio di precisione.

3. I principali vantaggi (rispetto ai normali borosilicati/custodi di vetro galleggiante)

Ultra-bassa autofluorescenza: la formula D265 a basso contenuto alcalino riduce al minimo la fluorescenza di fondo, eliminando l'interferenza della luce vagante per la microscopia a fluorescenza; stabilità chimica superiore:La resistenza idrolitica di alto livello resiste all'erosione a lungo termine dei solventi organici, acidi e alcali deboli con precipitazione ionico zero; bassa espansione termica e stabilità termica: CTE abbinata a wafer di silicio,resistente alla deformazione e alla fessurazione in cicli di temperatura e processi ad alta temperatura; eccellente trasmissione ottica: alta trasmissione di luce UV e visibile con zero aberrazione cromatica, compatibile con l'osservazione ottica, i processi di debonding laser e UV; piattezza ultrapreciosa:Polizione ad alta precisione a doppio lato, con rigorosamente controllata la piattezza e la tolleranza dello spessore, che soddisfano i requisiti di precisione a livello micron per i semiconduttori e l'ottica di precisione; basso contenuto di alcalini e privo di contaminazione:Basso contenuto alcalino previene il danno cellulare e la contaminazione dei wafer/reagenti di alta purezza, perfetto per processi di produzione ad alta pulizia.