Finestra in silice fusa lucidata a specchio a doppio lato, ad alta purezza T5, dimensioni personalizzate

Nome prodotto: Finestra in silice fusa ad alta purezza lucidato a specchio su entrambi i lati (spessore T5 per apparecchiature laser)
Specifiche: diametro esterno personalizzabile, spessore standard T=5 mm (nome breve materiale T5)
Processo superficiale: lucidatura a specchio nano su entrambi i lati, rivestimento antiriflesso AR opzionale

Questa lastra lucidata è realizzata in silice fusa ad alta purezza con finitura a specchio nano su entrambi i lati. Presenta resistenza alle alte temperature, resistenza all'irraggiamento laser, basso contenuto di idrossili, forte resistenza alla corrosione ed estremamente bassa perdita di luce. Viene utilizzata principalmente come finestra protettiva per apparecchiature laser a fibra e CO₂, nonché come finestra ottica per semiconduttori, osservazione ad alta temperatura e strumenti spettrali. Gli scenari dettagliati sono i seguenti:

Apparecchiature per taglio e saldatura laser a fibra (applicazione principale)

Semiconduttori e microelettronica fotovoltaica

Ottica da laboratorio e strumenti di analisi spettrale

Chimica fine e condizioni operative speciali ambientali

Struttura termicamente stabile T5 spessa: Substrato spesso 5 mm con elevata capacità termica e rapida dissipazione del calore, resistente alla deformazione termica e alle crepe sotto irraggiamento laser ad alta potenza, prestazioni di shock termico molto migliori rispetto al quarzo sottile.

Lucidatura a specchio nano su entrambi i lati: Rugosità superficiale Ra≤1nm, priva di graffi, fossette e bolle con perdita di scattering del fascio estremamente bassa e alta trasmittanza di energia laser.

Ampio intervallo di resistenza alle alte temperature: Servizio continuo stabile a 200℃~1100℃, coefficiente di espansione termica ultra-basso senza crepe sotto alternanza caldo-freddo.

Eccezionale resistenza alla corrosione chimica: Resiste ad acido fluoridrico, acidi concentrati, alcali e solventi organici; il vetro borosilicato fallisce in ambiente HF.

Contenuto di impurità ultra-basso e basso contenuto di idrossili: Silice fusa ad alta purezza senza dissoluzione di metalli pesanti, nessuna contaminazione per wafer, reagenti ad alta purezza e gas di processo elettronico.

Alta trasmittanza luminosa a banda intera: Eccellente trasmittanza UV, visibile e nel vicino infrarosso; rivestimento AR personalizzabile per laser da 1064 nm / 10,6 µm per aumentare ulteriormente la trasmittanza.

Elevata durezza e resistenza agli spruzzi: Elevata durezza Mohs, nessun graffio permanente da lievi spruzzi metallici, riutilizzabile dopo la pulizia.