Catodo al quarzo anticorrosivo ad alta purezza con superficie smerigliata di dimensioni personalizzate

Nome Prodotto: Catodo di Quarzo Satinato ad Alta Purezza con Resistenza alle Alte Temperature e alla Corrosione
Dimensioni: 95mm*91mm*44.5mm

Lavorato integralmente da quarzo ad alta purezza con satinatura fine su un lato/due lati. Presenta resistenza alle alte temperature, forte resistenza alla corrosione, zero precipitazione di metalli, eccellente isolamento e trasmissione uniforme della luce diffusa. Ampiamente utilizzato in processi di rivestimento, sputtering sottovuoto, elettrochimica, plasma di laboratorio e optoelettronica a semiconduttore:

Chimica di Laboratorio ed Elettrochimica

Attacco catodico per camere di reazione al plasma: Base catodica isolante all'interno di apparecchiature per la pulizia al plasma sottovuoto e l'incisione ionica. La superficie satinata disperde uniformemente il fascio di plasma per migliorare l'uniformità della reazione.

Supporto per test elettrochimici corrosivi: Supporto isolante per esperimenti di elettrolisi con elettroliti acidi, alcalini e contenenti fluoro, isolando le impurità dagli elettrodi metallici per prevenire la contaminazione dell'elettrolita.

Semiconduttori e Microelettronica PV (Applicazione Principale)

Supporto catodico in quarzo per sputtering e rivestimento PVD: Supporta target metallici e substrati wafer. La superficie satinata indebolisce la scarica ad arco locale per stabilizzare l'uniformità del rivestimento. Il materiale ad alta purezza evita la precipitazione di ioni metallici e difetti del film.

Componenti catodici isolanti in camere sottovuoto per la produzione di chip optoelettronici e dispositivi a film sottile, conformi agli standard di produzione elettronica ultra-pulita.

Nuovi Materiali e Chimica Fine a Film Sottile

Gabbia di supporto catodico per deposizione di film funzionali e nano-rivestimenti, indeformabile e priva di inquinamento in condizioni di vuoto ad alta temperatura.

Base isolante di serbatoi di reazione al plasma per la preparazione di film conduttivi e film catalitici per batterie al litio, resistente ai vapori corrosivi dei precursori.

Condizioni Speciali di Test Optoelettronici Sottovuoto

Base catodica abbinata a sorgenti luminose al plasma UV; il quarzo satinato diffonde uniformemente la luce UV per stabilizzare l'emissione luminosa.

Funzionamento continuo a 200~1100°C sottovuoto, adatto per processi di attivazione ionica ad alta temperatura e deposizione di vapore ad alta temperatura.