Wafer di quarzo fuso ad alta purezza fabbricati per lucidatura, dimensioni personalizzate personalizzabili

Luogo di origine Cina
Marca ZKTD
Certificazione SGS ISO
Numero di modello wafer di quarzo fuso
Quantità di ordine minimo 1
Prezzo negotiable
Tempi di consegna 5-8 giorni lavorativi
Termini di pagamento L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,
Dettagli
Materiale Quarzo di alta purezza Diametro Φ25 mm
Spessore 5mm Superficie Lucidatura a specchio bifacciale
Intervallo di temperatura 200℃~1100℃
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Oggetti di quarzo fuso ad alta purezza

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lucidatura di wafer di quarzo fuso

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Quarzo da wafer personalizzabile

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Descrizione di prodotto
Wafer di quarzo R12.5*5 Informazioni di base sul prodotto

Nome del prodotto: Disco di quarzo ad alta purezza
Dimensioni: Raggio R12.5mm (Diametro esterno Φ25mm), Spessore 5mm; dimensioni e grado di lucidatura personalizzabili

Principali applicazioni

Fabbricato e lucidato da quarzo ad alta purezza, con eccellente trasmissione della luce, resistenza alle alte temperature, resistenza ad acidi e alcali e precipitazione di impurità zero. Ampiamente utilizzato come guarnizioni di supporto per wafer semiconduttori, finestre di visualizzazione ottica, piastre di copertura per reattori di laboratorio, lenti fotocatalitiche trasparenti alla luce, fogli di osservazione sigillati per forni ad alta temperatura e substrati ottici per apparecchiature di test. Isola liquidi e gas ad alta temperatura trasmettendo luce UV e visibile, adatto per scenari ad alta pulizia tra cui microelettronica, nuova energia, esperimenti chimici e monitoraggio ambientale.

Vantaggi principali

1. Trasmissione ottica superiore: Alta permeabilità alla luce UV e visibile con bassa perdita di luce per un'osservazione chiara.

2. Eccezionale stabilità termica: Funzionamento stabile a lungo termine a 200℃~1100℃, resistente alle crepe sotto shock termico.

3. Forte resistenza alla corrosione chimica: Resiste all'erosione a lungo termine da parte di acido fluoridrico, acidi forti concentrati e alcali.

4. Pulizia ultra elevata: Materiale ad alta purezza privo di lisciviazione di metalli pesanti per evitare la contaminazione di wafer e reagenti ad alta purezza.

5. Lucidatura di precisione: Lucidatura a specchio su entrambi i lati con elevata planarità per una tenuta ermetica; sono disponibili ulteriori lavorazioni come taglio e scanalatura.