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Cristallo ottico
Finestra in silice fusa lucidata a specchio a doppio lato, ad alta purezza T5, dimensioni personalizzate
| Materiale: | Silice fusa di elevata purezza |
|---|---|
| Spessore: | T5 (standard 5 mm) |
| Processo superficiale: | Lucidatura a specchio nano su due lati |
Foglio di zaffiro di allumina a cristallo singolo, ad alta purezza, lucidato con precisione, dimensioni personalizzate
| Materiale: | Allumina monocristallina (α-Al₂O₃) |
|---|---|
| Durezza: | 9 Moh |
| Punto di fusione: | 2040 ℃ |
Lastra di vetro al quarzo spot borosilicato a 9 fori di dimensioni standard per l'analisi delle reazioni chimiche di laboratorio
| Materiale: | vetro borosilicato |
|---|---|
| Colore: | Chiaro/trasparente |
| Forma: | Rotondo, quadrato, piatto |
D265 Borosilicato piattaforma di vetro ottico portante a bassa autofluorescenza ad alta pianura resistente ai prodotti chimici
| Evidenziare: | Piattaforma portante di vetro ottico al borosilicato,Placca di vetro al quarzo a bassa autofluorescenza,Placca di vetro al quarzo ad alta piattazza |
|---|
Tubo di vetro di quarzo ad alta trasparenza antiscivolo con parete esterna ghiacciata
| Evidenziare: | Tubo di vetro di quarzo antiscivolo,Tubo di vetro al quarzo ad alta trasparenza,Tubi di quarzo con parete esterna ghiacciata |
|---|
Lastra di copertura in vetro di precisione ultrasottile Dimensioni 13,1 mm × 8 mm × 0,5 mm
| Evidenziare: | Lastra di copertura in vetro di precisione,Lastra di copertura in vetro ultrasottile,Lastra di copertura in vetro da 13 |
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K9 Piastra di vetro ottico ghiacciato 11,7 mm × 9 mm × 0,5 mm Diffusore ad alta trasmissione per l'imaging della visione artificiale
| Nome del prodotto: | Lastra in vetro ottico smerigliato ad alta trasmittanza K9 |
|---|---|
| Materiale: | Vetro ottico K9 |
| Dimensioni: | 11,7 mm × 9 mm × 0,5 mm |
Substrato di quarzo ad alta purezza 180×15×5 mm con resistenza alle alte temperature
| Materiale: | Silice fusa ad elevata purezza (SiO2 > 99,99%) |
|---|---|
| Dimensioni: | 180 mm x 15 mm x 5 mm (L x L x P) |
| Temperatura operativa massima: | 1100°C |
Piastra al quarzo lucidato su un lato 200x250x6mm di elevata purezza per dispositivo di rivestimento ottico per supporto wafer a semiconduttore
| Materiale: | Quarzo di elevata purezza |
|---|---|
| Dimensioni: | 200 mm x 250 mm x 6 mm |
| Superficie: | Lucido ottico di precisione su un solo lato |
Piastra di quarzo perforata di precisione 290x6x40 mm di alta purezza per rivestimento a vuoto a sfondo di forno a tubi
| Materiale: | Quarzo di elevata purezza |
|---|---|
| Dimensioni: | 290 mm x 6 mm x 40 mm |
| Tipo di foro: | Foratura di precisione, tolleranza stretta |